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作者:"(美)Gary S.May，施敏, 代永平"
出版年:"2007"
文献类型:
半导体制造基础
:(美)Gary S.May，施敏, 代永平
作者：
(美)Gary S.May，施敏, 代永平
出版社：
人民邮电出版社
出版时间：
2007
ISBN：
978-7-115-16639-5
索书号：
TN305/4895
分类号：
TN305
页数：
268页
价格：
45.00
复本数：
在馆数：
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本书在简要介绍半导体制造流程的基础上，着力从理论和实践两个方面对晶体生长、硅氧化、光刻、刻蚀、扩散、离子注入和薄膜沉积等主要制备步骤进行详细探讨。
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出版社
人民邮电出版社
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作者
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