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半导体制造基础
/(美)Gary S.May,施敏, 代永平
作者
(美)Gary
S.May,施敏,
代永平
价格
CNY45.00
出版者
人民邮电出版社
索书号
TN305/4895
ISBN
978-7-115-16639-5
分类号
TN305
页数
268页
出版日期
20070101
出版地
北京
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:本书在简要介绍半导体制造流程的基础上,着力从理论和实践两个方面对晶体生长、硅氧化、光刻、刻蚀、扩散、离子注入和薄膜沉积等主要制备步骤进行详细探讨。
附注提要
本书在简要介绍半导体制造流程的基础上,着力从理论和实践两个方面对晶体生长、硅氧化、光刻、刻蚀、扩散、离子注入和薄膜沉积等主要制备步骤进行详细探讨。
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