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完美曝光
:(美)萨蒙(Rick Sammon), 张波
作者：
(美)萨蒙(Rick Sammon), 张波
出版社：
人民邮电出版社
出版时间：
2010
ISBN：
978-7-115-21580-2
索书号：
J41/4444/16
分类号：
J41
页数：
14,215页
价格：
65.00
复本数：
在馆数：
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本书讲解了曝光在摄影中的重要作用，以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起，分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等
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中文图书
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出版社
人民邮电出版社
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作者
(美)萨蒙(Rick Sammon), 张波
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