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    完美曝光:(美)萨蒙(Rick Sammon), 张波

    作者:(美)萨蒙(Rick Sammon), 张波 出版社:人民邮电出版社 出版时间:2010 ISBN:978-7-115-21580-2
    索书号:J41/4444/16 分类号:J41 页数:14,215页 价格:65.00
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    本书讲解了曝光在摄影中的重要作用,以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起,分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等
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    数码摄影完美曝光技法:(英)迈克尔·弗里曼(Michael Freeman), 王逸飞

    作者:(英)迈克尔·弗里曼(Michael Freeman), 王逸飞 出版社:中国青年出版社 出版时间:2010 ISBN:978-7-5006-9378-9
    索书号:J41/5566/12 分类号:J41 页数:192页 价格:65.00
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    本书分快捷稳妥、技术基础、12种曝光类型、风格、后期处理五部分,主要内容包括:基本方法、关键决策、考虑亮度和曝光、传感器上的光线等。
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